一,、0.5T/H反滲透純水設備概述：

   工業(yè)純水設備主要是用于工業(yè)生產(chǎn)用水的純水制取裝置。工業(yè)純水設備包括反滲透設備,、離子交換設備,、EDI高純水設備，用在不同的行業(yè)其采用的過濾方法不同,，工藝流程也不一樣,。工業(yè)純水機可以用于：飲用水、瓶裝水,、食品工業(yè)用水,、半導體工業(yè)、,、光學工業(yè)用水,、電鍍用水、鋁氧化用水,、化妝品護膚品生產(chǎn)用水,、洗手液洗衣液生產(chǎn)用去離子水、洗洗潔精等洗滌劑工業(yè)用DI去離子水,、**水,、透析**用水、代替各類蒸餾水及超純水供水等

二,、0.5T/H 反滲透純水設備在工業(yè)生產(chǎn)中的應用：

   純水在電子工業(yè)尤其是電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出,，純水水質(zhì)已成為影響電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品合格率及生產(chǎn)成本的重要因素之一,，水質(zhì)要求也越來越高,。在電子元器件生產(chǎn)中,，高純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料,，不同的電子元器件生產(chǎn)中純水的用途不同,，因此對水質(zhì)的要求也不同。

    在電解電容器生產(chǎn)中,，鋁箔及工作件的清洗需用純水,，如水中含有氯離子，電容器就會漏電,。在電子管生產(chǎn)中,，電子管陰極涂敷碳酸鹽，如其中混入雜質(zhì),，就會影響電子的發(fā)射,，進而影響電子管的放大性能及壽命，因此其配液要使用純水,。在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中,，其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì)，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成,，其配制需用純水,，如純水中含銅在8ppb以上，就會引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色,、變暗,、閃光跳躍;含有機物膠體、微粒,、細菌等,，就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力，并會造成氣泡,、條跡,、漏光點等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12個工序中,，玻殼清洗,、沉淀、濕潤,、洗膜,、管頸清洗等5個工序需使用純水，每生產(chǎn)一個顯像管需用純水80kg,。

    液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液,，如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質(zhì),，就會使液晶顯示電路發(fā)生故障,，影響液晶屏質(zhì)量，導致廢,、次品,。顯像管、液晶顯示器生產(chǎn)對純水水質(zhì)的要求見表1,。在晶體管、集成電路生產(chǎn)中,，純水主要用于清洗硅片,，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源,，部分設備的冷卻水,，配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過程中的 80%的工序需要使用高純水清洗硅片,，水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大,。

     水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良,，重金屬 (Au,、Ag、Cu等)會使PN結(jié)耐壓降低,，Ⅲ族元素(B、Al,、Ga等)會使N型半導體特性惡化，Ⅴ族元素(P,、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化,，水中細菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)?/span>N型硅而導致器件性能變壞,，水中的顆粒(包括細菌)如吸附在硅片表面,，就會引起電路短路或特性變差。