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高端研發(fā)領域的多入射角激光橢偏儀,,采用多項專利技術,儀器硬件和軟件具有多項定制功能設計,,適用于光面或絨面納米薄膜測量,、塊狀固體參數(shù)測量、快速變化的納米薄膜實時測量等不同的應用場合,。
產(chǎn)品特點: 1.高精度,、高穩(wěn)定性 2.一體化集成設計 3.測量簡單 4.快速、高精度樣品方位對準 5.多角度測量 6.實時測量 7.豐富的材料庫及物理模型 8.強大的數(shù)據(jù)分析和管理功能
應用領域: 可應用于納米薄膜的幾乎所有領域,,如微電子,、半導體、生命科學,、電化學,、顯示技術、磁介質(zhì)及金屬處理等,??蓪{米層構樣品的薄膜厚度和折射率n及消光系數(shù)k進行快速、高精度,、高準確度的測量,,尤其適用于科研和工業(yè)產(chǎn)品環(huán)境中的新品研發(fā)及質(zhì)量監(jiān)控,可用于表征單層納米薄膜,、多層納米層構模系,,以及塊狀材料(基底)。
技術指標:
激光波長 |
632.8nm(He-Ne laser) |
膜層厚度精度 |
0.01nm(對于Si 基底上110nm 的SiO2 膜層 |
折射率精度 |
1x10-4 (對于Si 基底上110nm 的SiO2 膜層 |
光學結構 |
PSCA |
激光光束直徑 |
<1mm |
入射角度 |
40°-90°可選,,步進5° |
樣品方位調(diào)整 |
三維平移調(diào)節(jié),;±6.5mm(X-Y-Z三軸) 二維俯仰調(diào)節(jié):±4° 光學自準直系統(tǒng)對準 |
樣品臺尺寸 |
Φ 170mm |
單次測量時間 |
0.2s |
推薦測量范圍 |
0-6000nm |
**外形尺寸(長x寬x高) |
887x332x552mm(入射角為90°時 |
儀器重量(凈重) |
25kg |
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