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碳化硅(SiC)緣何成為第三代半導(dǎo)體**重要的材料?
在MOCVD反應(yīng)設(shè)備的外延工藝中,襯底晶片由轉(zhuǎn)動的石墨盤基座或載盤進(jìn)行支撐,,石墨盤基座的材料性能具有關(guān)鍵影響,進(jìn)而也影響著廢品率。
弘竣新材料采用德國SGL高純度等靜壓石墨,,為石墨盤基座和載盤精心挑選合適的石墨等級,高精密度的加工確保載盤坑內(nèi)具有均勻是的形貌和**小的平整度偏差,,**產(chǎn)品的質(zhì)量,。可依據(jù)客戶不同的需求規(guī)格加工定制,。
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