馬曼曼：18913180175

IC行業(yè)清洗純水,，OLED清洗超純水太陽能光伏用超純水設(shè)備,，光電行業(yè)用超純水設(shè)備，半導(dǎo)體行業(yè)用超純水設(shè)備,，單晶硅/多晶硅/硅材料/太陽能電池用工業(yè)超純水設(shè)備,，LCD液晶顯示器純水設(shè)備，LED光學(xué)超純水設(shè)備,，玻璃鍍膜配套超高純水設(shè)備,，光學(xué)鏡片清洗用超純水設(shè)備，薄膜電池多晶鑄錠超純水設(shè)備, EDI電去離子,，各行業(yè)用超純水處理設(shè)備,。

特點(diǎn)：在設(shè)備設(shè)計(jì)上，采用成熟,、可靠,、**、自動(dòng)化程度高的兩級(jí)RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝,，全膜法處理工藝：UF+二級(jí)RO+EDI+拋光混床,。確保處理后出水電阻率達(dá)到18 MΩ.CM以上,。**產(chǎn)品質(zhì)量的需求！

  參數(shù)：污染物去除率脫鹽率：99.8% 有機(jī)物去除率：>150MW 細(xì)菌隔除率：>99% 熱原去除率：>99% 顆粒去除率：>99% 進(jìn)水要求：污染指數(shù)(SDI)：<5 余氯：<0.1mg/L PH：5-8