等離子光氧一體機凈化設備是一種專門去除有毒有害氣體及惡臭氣體的一種裝置,。是等離子分解廢氣凈化器+UV光解除臭廢氣凈化器兩種設備的結(jié)合，綜合采用了等離子廢氣凈化器和紫外光觸媒除臭廢氣凈化器兩種設備的優(yōu)點組合而成,，利用等離子分解技術(shù)和UV紫外光解技術(shù)相結(jié)合,，對廢氣和臭氣進行協(xié)同凈化處理！它具有運行成本低,、設備占地面積小,，自重輕、無任何機械動作,，無噪音等特點,，等離子光解一體機凈化設備凈化效率在95%以上。



等離子光氧一體機工作原理:

本產(chǎn)品是先經(jīng)過等離子電廠處理在經(jīng)過高能高臭氧UV紫外線光束分解完成,，在經(jīng)過引風機排放,。

采用低溫等離子體分解油霧、廢氣等污染介質(zhì)時,，等離子體中的高能離子起決定性的作用,。流星雨狀的高能離子與介質(zhì)內(nèi)分子(原理)發(fā)生非彈性碰撞，將能量轉(zhuǎn)化成基態(tài)分子(原子)的內(nèi)能,，發(fā)生激發(fā),、離解、電離等一系列過程使污染介質(zhì)處于活化狀態(tài),。污染介質(zhì)在等離子體的作用下,，產(chǎn)生活性自由基，活化后的污染物分子經(jīng)過等離子體定向鏈化學反應后被脫除,。當離子平均能量超過污染介質(zhì)中化學鍵結(jié)合能時,，分子鏈斷裂，污染介質(zhì)分解,，并在等離子發(fā)生器吸附場的作用下被收集,。在低溫等離子體中，可能發(fā)生各類型的化學反應,，這主要取決于等離子的平均能量,、離子密度,、氣體溫度、污染物介質(zhì)內(nèi)分子濃度及共存的介質(zhì)成分,。

當廢氣進入等離子光解一體機凈化設備內(nèi)時,，先經(jīng)過等離子體化學反應過程，即電子*先從電場獲得能量,，通過激發(fā)或電離將能量轉(zhuǎn)移到分子或原子中去,，獲得能量的分子或原子被激發(fā)，同時有部分分子被電離,， 從而成為活性基團;之后這些活性基團與分子或原子,、活性基團與活性基團之間相互碰撞后生成穩(wěn)定產(chǎn)物和熱。(在外加電場的作用下,，介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量攜能電子轟擊污染物分子,，使其電離、解離和激發(fā),，然后便引發(fā)了一系列復雜的物理,、化學反應，使復雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹唵涡》肿拥奈镔|(zhì),，或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變成無毒無害或低毒低害的物質(zhì),，從而使污染物得以降解去除。)

然后部分有機廢氣再通過破壞,、分解,、催化氧化把污染氣體分解為無毒無害無味氣體。采用高能C波段光線強裂污染氣體分子鏈,，改變物質(zhì)分子結(jié)構(gòu),，將高分子污染物質(zhì)裂解、氧化成為低分子無害物質(zhì),，如水和二氧化碳等,。O3強催化氧化劑進行廢氣催化氧化, 可有效地殺滅細菌，將有毒有害物質(zhì)破壞且改變成為低分子無害物質(zhì),。在C波段激光刺激催化劑涂層產(chǎn)生活性,，強化催化氧化作用。在分解過程中產(chǎn)生高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,，即活性氧,，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧,。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用,，對惡臭氣體及其它刺激性異味有極強的清除效果。O3也為強催化氧化劑進行廢氣催化氧化, 裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵,，破壞細菌的核酸(DNA),，再通過臭氧進行氧化反應,，達到脫臭及殺滅菌的目的。